電鍍電鍍過(guò)程是將磁體接到直流電源陰極，浸入含有鍍層材料陽(yáng)離子的溶液中，陽(yáng)離子在電場(chǎng)作用下會(huì )遷移到陰極并轉化成金屬原子結晶到磁體表面。燒結釹鐵硼常用的有鍍鋅和鍍鎳，以及鎳銅鎳復合鍍。鋅在干燥空氣中比較穩定，在潮濕空氣或含氧的水中則會(huì )生成碳酸鋅薄膜，可延緩鋅的腐蝕速度，但在酸堿鹽溶液、海洋性大氣、高溫高濕空氣中耐腐蝕性較差，鈍化處理可顯著(zhù)提升鋅鍍層的耐蝕性。鎳容易與空氣中的氧形成極薄的鈍化膜，在常溫下對大氣、堿和一些酸有很好的耐腐蝕性，因此鍍鎳成為燒結釹鐵硼zui普遍的電鍍方式。

PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應于PVD技術(shù)的三個(gè)分類(lèi)，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。近十多年來(lái)，真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為當今zui先進(jìn)的表面處理方式之一。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說(shuō)的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。PVD鍍膜技術(shù)的原理：PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類(lèi)。真空蒸鍍在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱(chēng)膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。濺射鍍膜利用氣體放電產(chǎn)生氣體電離，其正離子在電場(chǎng)作用下高速轟擊陰極靶體，擊出陰極靶體原子或分子，飛向被鍍基體表面沉積成薄膜。離子鍍膜在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離子化，在氣體離子或蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物蒸鍍在工件上。